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常州第六元素申请双面卷式制备单层石墨烯膜专利实现石墨烯膜在金属基底两侧同步生长

作者:小编    发布时间:2026-02-10 03:18:55

  国家知识产权局信息显示,常州第六元素半导体有限公司申请一项名为“一种双面卷式制备单层石墨烯膜的方法及一种石墨烯膜”的专利,公开号CN121426103A,申请日期为2025年11月。

  专利摘要显示,本发明涉及一种石墨烯膜的制备方法,具体涉及一种双面卷式制备单层石墨烯膜的方法。本发明公开了一种双面卷式制备单层石墨烯膜的方法,包括以下步骤:(1)将金属基底与柔性多孔隔离材料围绕卷心交替绕卷,形成层叠结构的金属基底/柔性多孔隔离材料卷材;(2)使用还原性气体对金属基底/柔性多孔隔离材料卷材进行高温退火;(3)退火结束后,通入还原性气体/碳源气体混合气体在金属基底两侧同步进行石墨烯膜生长,生长阶段压力控制在500Pa以内。

  天眼查资料显示,常州第六元素半导体有限公司,成立于2018年,位于常州市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析,常州第六元素半导体有限公司专利信息136条,此外企业还拥有行政许可4个。

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